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弯道超车?中科院突破难题,不用荷兰光刻机,照样实现5NM

弯道超车?中科院突破难题,不用荷兰光刻机,照样实现5NM!

一提及中国的芯片会在未来弯道超车,很多的人都不相信。因为我们中国本来就技术落后,最主要的是,我们在研发进步的过程中,其他的国家也会进一步的加快步伐,这样就会将差距拉得更大。虽说事实是如此,不过我们现在迎来了一个新的契机,弯道超车也并不是不可能。接下来我们来看看吧!

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完成新型5nm的突破

大家都知道,要完成更加好的工艺制程,需要更为高端的光刻机。而我们国家的光刻机目前才刚刚突破28nm,和其他的光刻机技术相比落后太多,按照这个进程下去我们根本不可能超越。不过现在国家完成了新的5nm突破。前不久中科院宣布了一个新的消息,其表示我们国家已经研究出了新的5nm光刻加工方法,不需要使用荷兰的光刻机,我们也能够完成5nm的芯片制造。这意味着两个问题,第一点就是我们不会继续被光刻机所限制,芯片的精细制程也会更进一步。而第二点就是意味着我们就会有芯片超越的可能,具体原因小编接下来分析。

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ASML宣布1.5nm是终点

相信大家有过关注,近来三星和台积电的动作频频,在台积电宣布5nm量产之后,三星就跟了上来,并且还随后就宣布将开启3nm的计划。值得注意的是,在三星刚宣布不久之后,台积电就表示已经突破了2nm的进程。这两大巨头争斗直接又把我们甩下了一大截,因为国内的中芯还才N+1(7nm),要想在短时间内直接突破到2nm不太现实。毕竟如今的中芯并没有这个实力。不过,现在有了一个新的机会,让我们有快速追赶上的机会。

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在他们相继宣布了自己的nm工艺制程推进之后,ASML就公开表示,光刻机的终点技术就是1.5nm。这也就是说,在各个企业都很依赖ASML的光刻机技术之下,只要光刻机的本身的顶点到了,他们就是突破的再快也没有用。而只要他们停步在1.5nm之下,我们国家的芯片就有了追赶的机会。更重要的是,这就是我们弯道超车的时候。前文已经说到了,我们国家已经攻破了不需要光刻机就可以生产芯片的技术,也就意味着在他们光刻机技术止步的时候,我们还有待开发的空间,那么这就可能会弯道超车。

弯道超车?中科院突破难题,不用荷兰光刻机,照样实现5NM

当然了,想要弯道超车并不是一朝一夕的事情,要想真正的走到这一步,我们必须在短时间内就从如今攻克的新的5nm技术突破到超1.5nm的存在,只有这样我们才能避免他们可以在短时间内会攻克其他的技术再次拉开差距。

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总结:总之就小编认为我们这一次弯道超车的可能性很大,只要给足时间那么我们就会迎来新的一片天地。对此,网友们怎么看呢?一起来说说自己的看法吧!

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